電子、光學(xué)、清洗
Kefrier 400電子氟化液、電子清洗劑、溶媒
Kefrier 400電子氟化液的主要成分為氫氟醚(HFE),是新一代對環(huán)境影響較低的清洗劑、溶媒解決方案。尤其是其臭氧消耗潛能值(ODP)為零,即對臭氧無破壞作用,其全球暖化趨勢系數(shù)(GWP)為580,與HFC、PFC相比大幅降低,因此極大減輕了對環(huán)境的負擔(dān)。
Kefrier 400電子氟化液具有優(yōu)秀的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,且擁有適度的溶解性,無閃點,應(yīng)用安全,這些特點使其應(yīng)用非常廣泛。
Kefrier 400可以替代HFC,PFC、杜邦公司Vertrel、3M公司Novec、旭硝子公司Asahiklin AE 3000溶劑產(chǎn)品。
主要特點
低表面張力、低粘度、高密度、滲透性良好、優(yōu)秀的材料兼容性、對大部分樹脂、金屬材料無影響,可以蒸餾再生、低毒性,不燃性,無腐蝕性,應(yīng)用安全度高
應(yīng)用領(lǐng)域
精密電氣、電子清洗液:金屬、合金、復(fù)合材料、塑料等材質(zhì)的精密電氣、電子元器件的清洗;精密清洗電子元器件的顆粒雜質(zhì)
溶劑、稀釋劑:氟油、氟樹脂、氟涂層劑、硅油等
干燥劑:干燥、去除水分、不留水痕,去除乙醇等碳氫清洗劑
用作精密清洗劑:
Kefrier400的低表面張力、低粘度、良好的滲透性、適中的溶解性使其與超聲波結(jié)合使用可以發(fā)揮更佳的清洗效果。適用于單一溶劑清洗、與碳氫清洗劑共溶劑清洗、水分去除、干燥多種方式。
純?nèi)軇┣逑吹挠猛九e例:CCD、CMOS傳感器等電子設(shè)備的除塵、清除表面顆粒;CCD、CMOS模塊中IR玻璃、鏡筒部位的清洗、干燥;半導(dǎo)體生產(chǎn)裝置零件、腔體的清洗;輕質(zhì)與中質(zhì)油污的清洗;氟油、潤滑油的清洗;顆粒的擦除清洗;印刷零件壓膜后的清洗等,純?nèi)軇┣逑吹氖疽馊缦隆?/span>
與碳氫清洗劑共溶劑清洗方式應(yīng)用舉例:液晶模塊、面板的清洗;硬盤的懸架、托桿的脫脂清洗與干燥;精密加工零件的硅油清洗與干燥;引擎墊圈按壓后清洗;氣缸真空管的樹脂清洗;航空機零件的切削油去除清洗等
水分去除、干燥方式用途舉例:去除、干燥相機等鏡片的水分;去除、干燥CCD、CMOS傳感器封裝的水分;去除、干燥硬盤精密零件的水分
產(chǎn)品數(shù)據(jù)表:
特性名稱
指標(biāo)
化學(xué)名稱
1,1,2,2-四氟乙基-2,2,2-三氟乙基醚(347pcf)
化學(xué)式
C4H3F7O
分子量
200.05
外觀
透明液體
沸點 ℃
56
凝固點(25℃)
-94
比重(25℃)
1.47
表面張力(25℃,mN/m)
16.4
蒸汽壓(25℃)MPa
0.031
比熱(23℃,KJ/(kg.K))
1.26
黏度(25℃)
0.44
蒸發(fā)速度(醚100)
67
KB值
13
蒸發(fā)潛熱(25℃)(kJ/kg)
163
燃點,℃
無
臭氧層破壞指數(shù)(ODP)
0
地球溫暖化指數(shù)(GWP)
560
*臭氧層破壞系數(shù)(ODP)(CFC-11=1)
*GWP(CO2=1,累計100年)
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